Солнечные элементы

Наибольшее распространение нашли затем в СССР и за рубежом солнечные элементы на основе гетеросистем р-Ga_1-хAl_хAs — p-GaAs — n-GaAs, получаемых методом жидкостной или газовой эпитаксии с одновременной термодиффузией акцепторной примеси цинка, в которых основной p-n-переход, разделяющий носители заряда, расположен в базовой пластине из арсенида галлия, а слой твердого раствора алюминия в арсениде галлия выполняет роль широкозонного окна — фильтра и благодаря изотипному p-n-переходу на поверхности арсенида галлия практически устраняет потери на поверхностную рекомбинацию.

Ширина и химический состав широкозонного фильтра могут меняться, существенно влияя на свойства получаемых солнечных элементов. Например, при увеличении толщины этого слоя, а также слоя p-GaAs и степени легирования обоих слоев резко уменьшается последовательное сопротивление элементов (и становится выгодно использовать их при больших концентрациях потока солнечного излучения); при уменьшении толщины верхних слоев элементов практически исчезают оптические потери на поглощение в этих слоях. Изменение химического состава слоя окна (в частности, содержания алюминия в нем) позволяет создать на поверхности вари-зонную структуру, помогающую собиранию носителей заряда, рождаемых коротковолновым светом в верхних слоях солнечных элементов. Для расчета и оптимизации оптических и электрических свойств солнечных элементов на основе таких гетероструктур прежде всего необходимо знать зависимость ширины запрещенной зоны и характера оптических переходов в основной полосе поглощения от состава материала, а также оптические константы полупроводниковых слоев.

Как было показано в ряде исследований, для полупроводникового соединения Al_xGa_1-xAs при x≤0,4 характерны прямые оптические переходы, а в области 0,4≤x≤0,8 (предел химической устойчивости соединения) спектральная зависимость коэффициента поглощения имеет вид, типичный для непрямого перехода. Таким образом, перед разработчиками элементов открывается возможность уменьшить поглощение излучения в слое твердого раствора благодаря использованию для материала окна-фильтра тонкого слоя с большим значением х или варизонной структуры малой толщины (предпочтительно с небольшим значением х у поверхности твердый раствор — воздух и высоким значением х у границы раздела твердый раствор — арсенид галлия). При этом необходимо отметить, что в случае сравнительно толстых слоев твердых растворов, получаемых технологически достаточно просто и имеющих преимущества с точки зрения создания надежных электрических контактов, целесообразно применять твердые растворы с обратной зависимостью состава от глубины или просто равномерные слои со сравнительно высоким значением х.

Рис. 4.9. Зависимость ширины запрещенной зоны полупроводникового соединения Аl_xGа_1-xАs от его состава для различных видов оптических переходов

1 — прямые; 2 — смешанные

Pис. 4.10. Спектральная зависимость коэффициента собирания (а) солнечных элементов на основе арсенида галлия с гомогенным p-n-переходом (I) и гетеропереходом p-Ga_0.3Al_0,7As — p-GaAs — n-GaΛs (II) и схема расположения слоев в элементах обоих типов (б)

1 — просветляющие и защитные покрытия; 2 — верхний токосъемный контакт; 3 — широкозонное окно-фильтр из слоя твердого раствора p-Al_xGa_1-хAs; 4 — p-GaAs; 5 — базовый слой n-GaAs толщиной 250–300 мкм; 6 — тыльный контакт

На рис. 4.9 представлена зависимость ширины запрещенной зоны Al_xGa_1-xAs от состава данного полупроводникового соединения (от величины х) для случая прямых оптических переходов при любых значениях х (кривая 1) и для смешанной модели — прямых оптических переходов при х≤0,4 и непрямых при х≥0,4 (кривая 2).